基于鐵電薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si結構的負電容效應研究
麥滿芳; 朱傳云; 李矩明; 馬信洲 佛山科學技術學院物理與光電工程學院; 廣東佛山528225; 佛山科學技術學院材料科學與能源工程學院; 廣東佛山528225
關鍵詞：負電容 鐵電薄膜 pvdf mfis結構 電感
摘要：采用旋涂法制備了基于鐵電聚合物薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si(MFIS)結構.通過測量MFIS結構的電容-頻率特性和電容-電壓特性,觀察到負電容效應.測量頻率越低,正向偏壓越大,負電容效應越顯著.在時域中,施加脈沖電壓,出現(xiàn)瞬態(tài)電流隨時間增大的電感現(xiàn)象.研究結果表明,MFIS結構中的負電容效應是一種電感現(xiàn)象.構建能帶圖分析MFIS結構中負電容效應的產(chǎn)生原因,是由于大量電子注入到界面中被捕獲使得電流的相位落后于電壓導致.基于鐵電薄膜的負電容MFIS結構有望應用于低功耗器件中.
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