ISSN：2049-887X
E-ISSN：2049-8888
H-index指數(shù)：
文章自引率：
影響因子：1.1
年發(fā)文量：4
研究類文章占比：100.00%
開源占比：
OA被引用占比：
國際應用模式識別雜志 SCIE
International Journal Of Applied Pattern Recognition
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國際簡稱：INT J APPL PATTERN R
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出版周期：暫無數(shù)據(jù)
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研究方向：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE
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出版語言：English
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創(chuàng)刊時間：暫無數(shù)據(jù)
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是否預警：否
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出版地區(qū)：暫無數(shù)據(jù)
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是否 OA：未開放
期刊介紹
《International Journal Of Applied Pattern Recognition》(《國際應用模式識別雜志》)是一本COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE學術刊物，主要刊載COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE相關領域研究成果與實踐，旨在打造一種學術水平高、可讀性強、具有全球影響力的學術期刊。本刊已入選SCIE來源期刊。2023年發(fā)布的影響因子為1.1。